首先镁的燃点低，加工的热量散发慢就会引起燃蓝光烧现象并且镁离子的氧化析出导致的切削液硬度迅速增加，高硬度条件下切削液极易破乳分层等不稳定现象。
铝是两性金属，容易跟酸碱反生氧化反应，所以需要的切削液必须不含氯硫离子的同时，PH值需偏中性维持在8.1-8.5之间，且选用软水质来加工产品。
镁铝合金专用切削液为低腐蚀，生物性能稳定的水溶性微乳型切削液，特别是针对镁合金材料（以镁为主）具有极佳的保护效果。具有良好的冷却、润滑、和防锈的功能，安全无毒等。
镁铝合金专用切削液性能优点：
1、良好的镁保护性能特别。
2、本品不含亚硝酸钠等有害成分。
3、耐硬水高。
4、使用可获得理想的表面保护效果，提高加工面光洁度和加工效率，并能延长刀具的使用寿命。
镁铝合金专用切削液适用范围：
镁铝合金专用切削液推荐兑水比例1：10-1：20使用具体使用浓度视工况而定，一般浓度越高润滑、防锈性能会越好。
镁铝合金专用切削液各种镁合金、铝合金的切削、铣削和攻牙加工。
镁铝合金专用切削液特别适合镁合金加工。
镁铝合金专用切削液注意事项：
客户根据自身加工材料要求选择合适的兑水比例使用，减少浪费，一般浓度越高，防锈及润滑效果越好。
原液存放时间久外观会有轻微黄变属于正常现象，不会影响加工效果。
使用时请勿与其它切削液混用，补充液体时请按比例加入原液和水，不能直接补充水份。

不锈钢除蜡水特点和用途
特点：
新型的ANPYN系列不锈钢除蜡水融合了两项新技术，是高品质、高浓缩水剂型高速、高效、强力、环保清洗剂产品，对蜡垢油污有最高的净洗力、优良的自动线应用的便利性，成为除蜡清洗的典范产品。

用途：
· 本产品适用清洗不锈钢餐具、厨具、表带表壳、手机外壳等不锈钢产品及钢铁制品的各种蜡垢油污。
· 精密机械、模具部件超声波、喷淋除蜡除油高速清洗。

不锈钢除蜡水性能
高效节能：除蜡快速彻底、力度持久，对严重蜡垢、深藏缝隙微孔内的蜡垢亦可轻易清洗。配比浓度低，使用寿命长，常温即具高速清洗性，中温结合喷淋或超声可达最高净洗力和最高清洗速度。
·金属防护：不伤工件基体，对产品无腐蚀，清洗后工件表面不色。
·漂 清 性：良好的易漂清性，工件清洗后表面光亮，无残余蜡灰及油印。可应用于最简清洗线。

金属表面去油通常可以采用以下方法：

常用来作为溶剂型清洗剂的有：煤油、柴油、汽油、三氯乙烯、三氯甲烷、白电油、酒精、碳氢清洗剂、碳化水素、白电油替代品、正己烷替代品、枪水替代品、三氯乙烯替代品等。溶剂型清洗剂具有清洗效果好的特点，但是其挥发性快往往会导致问题，如危害工人健康，易燃等。

水基清洗剂即主要成分为水溶、或水中分散的清洗剂，能用水进行稀释使用，稀释后稳定，使用效果好。
(a)酸性清洗剂
酸性清洗剂是指PH值低于7的清洗剂。酸性清洗剂具有能够快速清除表面氧化皮的作用，因此，主要用来清除表面的锈迹。铝合金酸性除油剂，主要成分为有机酸、表面活性剂、缓蚀剂以及水组成。可以清除铝材表面的油污以及锈迹，可用于喷淋、浸泡、超声波清洗。
(b)碱性清洗剂
碱性金属表面清洗剂是指PH值大于7的清洗剂。大多数水基清洗剂都为碱性清洗剂。其主要成分为碱性物质（无机碱、有机碱）、表面活性剂、缓蚀剂以及水。不管是酸性清洗剂还是碱性清洗剂，其配置的最大问题即是表面活性剂的溶解问题，很多非离子表活无法溶解在高浓度酸、或者碱中，因此，这成为清洗剂开发过程中的一个难点。不同碱度的清洗剂，其中氢氧化钠含量最高可达30%，选取的表面活性剂仍可以溶解，具有较好的清洗剂效果，适合喷淋、浸泡、超声清洗。
(c)中性清洗剂
中性金属表面清洗剂是指PH值约等于7的清洗剂，其组成一般为表面活性复配一些清洗助剂、缓蚀剂来达到清洗效果。
产品推荐：
耐强碱重油污清洗用表面活性剂31789
一、产品性质

本品是一种超支链吉米奇(Gemini)表面活性剂。绿色环保;不含磷、甲醛、APEO、NPEO;具有较高的表面活性，良好的乳化、分散能力、剥离能力、渗透性能。与阴离子、非离子表面活性剂、助剂、添加剂、溶剂配伍性好。适用于配制各种工业及民用清洗剂。

二、产品特点
1.无磷、无刺激、无异味、不含APEO、NPEO、不易燃易爆，易生物降解。
2.针对矿物油、动植物油具有优异的乳化、分散、渗透能力。
3.具有优异耐碱性（30%NaOH以上）、不耐酸，良好的水溶性,无浊点。
4.适用模式广：适用于超声波、电解、擦洗、浸渍等清洗方式。

三、技术指标

四、产品用途
广泛应用于配制各种工业及民用清洗剂。如：电镀化学脱脂、涂装前处理、汽车金属部件、塑料及硬表面清洗、管道清洗剂、纺织及皮革前处理、各种溶器清洗剂、电子产品及精密仪器清洗剂、洗衣液、造纸和纺织品加工、油漆和涂料、农用化肥、金属加工液，皮革工业用于脱脂，在农药、医药、橡胶、建筑等行业作乳化剂。
五、参考配方：
表面活性剂31789：9%
焦磷酸钾：  6%
柠檬酸钠：4%
NaOH:   20%
无水偏硅酸钠：2%
去离子水：  余量